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  • MS450科研鍍膜機

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-10-16
  • MS450實驗室鍍膜機

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-10-16
  • MS450小型鍍膜設備

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

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    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-10-16
  • MS450真空鍍膜設備

    鍍膜設備主要功能能夠在微顆粒表面沉積各種金屬薄膜(包括磁性金屬膜)、金屬氧化物薄膜、金屬氮化物薄膜及合金薄膜,且所鍍薄膜致密、均勻、純度高、附著力強等。

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    產品價格:面議
    廠商性質:生產廠家
    更新日期:2024-10-16
  • MS450小型真空鍍膜機

    1.MS450是一臺高真空磁控濺射鍍膜設備。$n2.設備主要由真空室、濺射靶槍、濺射電源、加熱樣品臺、流量控制系統、真空獲得系統、真空測量系統、氣路系統、PLC+觸摸屏自動控制系統等組成。$n3.該設備主機與控制一體化設計,操控方便;結構緊湊,占地面積小。

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    更新日期:2024-10-16
  • MS450實驗室真空鍍膜設備

    實驗室真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空電阻加熱蒸發(fā),電子槍加熱蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積,離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

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    更新日期:2024-10-17
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