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實驗室光刻機(jī)

簡要描述:實驗室光刻機(jī)參數(shù):1.曝光面積:160mm*160mm。2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um。3.對準(zhǔn)精度:±1-1.5um。4.光源強度:35mW/cm2。5.UV光源:進(jìn)口LED模塊。

  • 所在城市:無錫市
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新日期:2024-11-07
  • 訪  問  量:109

詳細(xì)介紹

  實驗室光刻機(jī)產(chǎn)品參數(shù) :
 
  1.曝光面積:160mm*160mm
 
  2.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  3.對準(zhǔn)精度:±1-1.5um
 
  4.光源強度:35mW/cm2
 
  5.UV光源:進(jìn)口LED模塊
 
  6.曝光中心波長:365nm
 
  7.光源壽命:1萬小時,光源平行性:≤2°
 
  8.曝光分辨率:接觸式曝光0.8um-1um
 
  9.照度不均勻性:≤3%
 
  10.曝光設(shè)定:定時
 
  11.可執(zhí)行曝光模式:真空接觸、硬接觸、壓力接觸、接近式
 
  12.間隙設(shè)定方式:數(shù)字設(shè)定曝光間隙0-1200um
 
  13.可調(diào),可自動分離和消除間隙
 
  14.樣片、掩模版相對移動范圍:X:±5mm,Y:±5mm,0=±6°
 
  15.掩模版找平方式:球氣浮自動找平
 
  16.可支持掩模版尺寸:3"x3"、4"x4"、5"x5"、7"x7"各一件
 
  17.標(biāo)配承片臺:2英寸、3英寸、4英寸、6英寸
 
  18.標(biāo)準(zhǔn)配件可兼容樣片厚度:0.1-5mm,其他尺寸可定制
 
  19.對準(zhǔn)系統(tǒng):光學(xué)+CCD,顯微倍數(shù):放大倍率:150倍-720倍可調(diào)
 
  20.雙物鏡可調(diào)距離范圍:30mm-120mm

 

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